ЕАЭС N RU Д-RU.РА06.В.58681/23

Серии: dna, gla, моделей: x₁-x₂-x₃-(х₄)-х₅-(х₆)-(х₇ )-(х₈)-х₉ -(х₁₀)-(х₁₁)-х₁₂. (в скобках указаны необязательные параметры), где: х₁ – буквенно-цифровое обозначение размера диагонали, и соотношение сторон экрана жк-монитора. х₂ - буквенное обозначение типа лицевой панели, х₃ – буквенное обозначение цвета передней панели. х₄ – буквенное обозначение (м) наличия особенностей в конструкции монитора. х₅ – буквенное обозначение типа жк-экрана (матрицы). х₆ – буквенное обозначение (h) наличия улучшенных параметров отображения жк-экрана (матрицы). х₇ – буквенное обозначение наличия покрытия поверхности экрана. х₈ – буквенное обозначение (о) наличия дополнительных опций. х₉ – буквенно-цифровое обозначение напряжения питания монитора и наличие в комплекте внешнего адаптера питания. х₁₀ – буквенно-цифровое обозначение температуры эксплуатации и хранения монитора. х₁₁ – буквенно-цифровое обозначение типа панельного крепления у мониторов серии gla. х₁₂ – релиз (выпуск) монитора. Жидкокристаллические мониторы промышленные торговой марки front man, модельного ряда front display,

Действие декларации о соответствии распространяется на серийно выпускаемую продукцию, изготовленную с даты изготовления отобранных образцов продукции, прошедших испытания: май 2023 года.

Условия хранения

Температура хранения - стандартная: –10 ~ +60 °c, расширенная: –10 ~ +60 °c, –20 ~ +70 °c, –30 ~ +70 °c, –40 ~ +60 °c и др. (в зависимости от модели). хранение мониторов серии dna на складе потребителя и изготовителя должно осуществляться в соответствии с требованиями гост 23216. в складских помещениях, где хранятся изделия, температура воздуха должна соответствовать заявленной в паспорте у конкретной модели. при температуре 25 °c относительная влажность должна быть не более 80%, при более низкой температуре – без конденсации влаги. изделие должно храниться в упаковке и в складских помещениях, защищающих монитор от воздействия атмосферных осадков и прямого солнечного света. при этом в воздухе помещения должны отсутствовать пары кислот, оснований и других агрессивных химических агентов.